1. 北京电子科技职业学院生物工程学院
2. 中核工程咨询有限公司
纸质出版:2023
移动端阅览
侯丽媛, 吴志明, 刘易宗, 等. 低温等离子体处理典型挥发性有机污染物的条件分析[J]. 能源研究与管理, 2023,15(2):79-87.
侯丽媛, 吴志明, 刘易宗, et al. 低温等离子体处理典型挥发性有机污染物的条件分析[J]. 2023, 15(2): 79-87.
侯丽媛, 吴志明, 刘易宗, 等. 低温等离子体处理典型挥发性有机污染物的条件分析[J]. 能源研究与管理, 2023,15(2):79-87. DOI: 10.16056/j.2096-7705.2023.02.012.
侯丽媛, 吴志明, 刘易宗, et al. 低温等离子体处理典型挥发性有机污染物的条件分析[J]. 2023, 15(2): 79-87. DOI: 10.16056/j.2096-7705.2023.02.012.
为探究NTP(低温等离子体)处理典型VOCs(挥发性有机物)的最佳处理条件,以苯、甲苯和氯苯为研究对象,考察不同电源极性、能量密度、模拟废气成分、反应器结构及不同苯环取代基情况下,3种污染物的VOCs去除效果、能量效率情况。结果表明:负电源相对于正电源处理能力更强。2 L/min为最佳处理气量,NTP体系适用于处理稍高于80×10
-6
初始体积分数的甲苯。25%的低相对湿度条件普遍有利于VOCs去除。中心电极齿轮齿数增加可以提高中低能量密度下甲苯的去除率;放电极间距适当减小至13 mm也可以使甲苯去除率得到一定程度提高。NTP处理3种污染物的效果顺序为甲苯>苯>氯苯。结果可为NTP处理典型VOCs提供必要的理论参考。
陈武权,黄赟.综合分析评价法在挥发性有机物治理中的应用——以江西省某工业园区为列[J].能源研究与管理,2022(03).
马文鑫,余淼霏,王麒越,田明哲.低温等离子体技术脱除挥发性有机物研究进展[J].辽宁化工,2021(09).
夏诗杨,米俊锋,杜胜男,邵长军.低温等离子体处理挥发性有机物的研究进展[J].应用化工,2021(04).
薛行飞,毛映丹.简析喷漆有机废气治理措施及处理效果[J].能源研究与管理,2018(02).
郭海倩,缪晶晶,姜理英,张迪.低温等离子体-生物耦合系统对复合CVOCs的降解[J].环境科学,2018(02).
周建刚,刘中凡,王文双.汤生放电理论的简介[J].大连大学学报,2003(06).
黄新明.低温等离子体协同Fe-Mn/Al_2O_3催化降解VOCs研究[D].武汉科技大学,2021(01).
杨海龙.低温等离子体-生物氧化处理含氯含苯类VOCs工艺研究[D].郑州轻工业大学,2019(07).
张琪.低温等离子体处理甲苯废气及其机理研究[D].西安工程大学,2018(02).
赵业红.直流电晕低温等离子体协同催化降解低浓度挥发性有机废气的研究[D].浙江大学,2016(05).
付强新.低气压辉光放电等离子体模拟与特性研究[D].西安电子科技大学,2013(01).
Kamaleddin Abedi,Farshid Ghorbani-Shahna,Babak Jaleh,Abdolrahman Bahrami,Rasoul Yarahmadi,Rouzbeh Haddadi,Mastaneh Gandomi.Decomposition of chlorinated volatile organic compounds (CVOCs) using NTP coupled with TiO 2 /GAC, ZnO/GAC, and TiO 2 –ZnO/GAC in a plasma-assisted catalysis system[J].Journal of Electrostatics,2015.
Xing Fan,Tianle Zhu,Yajuan Wan,Xiao Yan.Effects of humidity on the plasma-catalytic removal of low-concentration BTX in air[J].Journal of Hazardous Materials,2010.
W. Mista,R. Kacprzyk.Decomposition of toluene using non-thermal plasma reactor at room temperature[J].Catalysis Today,2008.
Hyun Ha Kim,Graciela Prieto,Kazunori Takashima,Shinji Katsura,Akira Mizuno.Performance evaluation of discharge plasma process for gaseous pollutant removal[J].Journal of Electrostatics,2002.
Jaeyoung Park,I. Henins,H. W. Herrmann,G. S. Selwyn,J. Y. Jeong,R. F. Hicks,D. Shim,C. S. Chang.An atmospheric pressure plasma source[J].Applied Physics Letters,2000.
0
浏览量
164
下载量
0
CSCD
关联资源
相关文章
相关作者
相关机构
京公网安备11010802024621