基于反应磁控溅射SnO<sub>2</sub>薄膜的氢气传感器制备工艺与性能测试

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基于反应磁控溅射SnO₂薄膜的氢气传感器制备工艺与性能测试

面向新型电力系统的电网设备数字化：电力专用传感与芯片技术专题 | 更新时间：2026-02-25

- 基于反应磁控溅射SnO₂薄膜的氢气传感器制备工艺与性能测试
- 基于反应磁控溅射SnO₂薄膜的氢气传感器制备工艺与性能测试
- 高电压技术 2025年51卷第7期页码：3201-3212
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- DOI：10.13336/j.1003-6520.hve.20240647
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- 纸质出版：2025
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{{article.zuoZhe_CN}}. 基于反应磁控溅射SnO₂薄膜的氢气传感器制备工艺与性能测试[J]. 高电压技术, 2025,51(7):3201-3212.

{{article.zuoZhe_EN}}. 基于反应磁控溅射SnO₂薄膜的氢气传感器制备工艺与性能测试[J]. 2025, 51(7): 3201-3212.
{{article.zuoZhe_CN}}. 基于反应磁控溅射SnO₂薄膜的氢气传感器制备工艺与性能测试[J]. 高电压技术, 2025,51(7):3201-3212. DOI： 10.13336/j.1003-6520.hve.20240647.

{{article.zuoZhe_EN}}. 基于反应磁控溅射SnO₂薄膜的氢气传感器制备工艺与性能测试[J]. 2025, 51(7): 3201-3212. DOI： 10.13336/j.1003-6520.hve.20240647.

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