탄소 기반 저온 SCR 질소산화물 제거 연구 진척

LI Haojie ,  

LIU Yongjiang ,  

HE Zhiqiang ,  

LIU Gang ,  

ZHANG Zhiyong ,  

YUE Yonghong ,  

A Guna ,  

ZHANG Haifeng ,  

SONG Tao ,  

摘要

저온 질소산화물 제거는 현재 제거 분야의 핫 이슈로서, 저온(300℃ 미만)에서 안정적이고 효과적인 선택성 촉매환원(SCR) 촉매체 개발이 핵심 요소이다. 탄소 기반 재료는 발달된 기공 구조와 큰 비표면적을 가지고 있어 활성 촉매 성분에 대한 공간 및 표면 지지를 제공할 수 있다. 탄소 기반 촉매를 이용한 저온 질소산화물 제거 기술은 광활한 발전과 적용 가능성을 지니고 있다. 본 논문은 NCR 기술의 반응 메커니즘과 흔히 사용되는 탄소 기반재료, 저온 질소산화물 제거에 대한 탄소 촉매 성능에 영향을 미치는 요소에 대해 분석한 후, 탄소 기반촉매 연구를 상세히 요약하여 향후 발전 방향과 건의사항을 제시해왔다.

关键词

선택성 촉매환원; 저온 질소산화물 제거; 탄소 기반재료; 촉매체

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