이 연구는 고온, 고압 수화학 환경에서 가스 냉각 2차 회로의 T22 재료 열전달관의 균일 부식 행동을 연구했습니다. 결과는 용액 pH 값 증가 및 암모니아 질량 농도 감소는 T22 재료의 균일 부식을 어느 정도로 억제할 수 있음을 보여준다. 반응 온도 상슨에 T22 재료 열전달관의 균일 부식 속도가 증가하고, 고온, 고압 수화학 환경에서 T22 재료 표면에는 Fe3O4 산화막이 생성되어 반응 시간이 지남에 따라 Fe3O4 결정 입자 크기는 서서히 커지는데, 이로 인해 Fe3O4 산화막 밀도가 크게 증가하여 T22 재료의 균일 부식 속도가 현저히 감소한다. 768시간 반응 후 T22 재료의 균일 부식 속도가 0.016 g/(m2·h)로 떨어졌다.

고온 가스 냉각; 물화학; T22 재료; 균일 부식; 산화막