플라즈마 프로세스로 유도된 H2O-O2 클러스터 집합 기술을 활용하여 화학적 흡수로 연매연으로부터 질산화물 제거. 연구에서 에어로졸의 산화물도시이온이 참여함으로써 산소플라즈마의 안정화된 발광을 얻을 수 있다는 것을 나타냅니다. 유런 과정에서 HNO2와 HNO3이 동시에 생성되며 질소산화물의 제거율이 70% 이상 달성될 수 있음을 확인할 수 있습니다. 또한 NaOH 용액은 NO 흡수율이 낮으며 NO2 흡수율이 높으며, NaOH 용액에 의한 총 질소산화물 제거율은 최대 90%까지 달성될 수 있음을 보여줍니다.

플라즈마 프로세스; 자유 라디칼; 반응기; 화학적 흡수; 연매연으로부터의 질소산화물 제거