새로운 유형의 표면 활성 아민 방식 보호제가 개발되었으며, 이 보호제는 금속 표면에 밀도 높은 γ-FeOOH 보호층을 형성하는 데 있어 부식 요소와 금속 기저체 간의 직접 접촉을 차단하여 부식 억제 목적을 달성할 수 있습니다. 새로운 표면 활성 아민 방식 보호제의 성능을 시험하고 특정한 600MW 저임계 직접 냉각 장치에 적용했습니다. 적용 결과 새로운 표면 활성 아민이 형성한 보호 막이 완전히 밀폐되어 있음을 보여줍니다. 이 보호층은 좋은 보호 효과를 갖고 있으며 증기 수질 및 응축수 처리수지에는 명백한 유해 영향을 주지 않으며 화학 계기의 투입 과정을 정상적으로 운행할 수 있습니다. 장치의 초기 세정 과정 중 물의 자격 시간을 단축하여 장치가 조기 발전을 가능케합니다.