摘要
고정 층 반응기를 사용하여 활성탄에 V2O5/AC(V2O5/AC) 촉매를 제조하는 과정 중 각 변수가 촉매의 질산의 탈질 활성에 미치는 영향을 연구하였다. 결과는 HNO3의 사전 처리가 V2O5/AC촉매의 탈질 활성에 뚜렷한 촉진 효과를 가지며, 최적의 V 적층도는 3%이었으며; 활성 성분 전구체는 450℃ 이상의 열분해 온도에서 완전히 분해되어, 최적의 사전 산화 온도는 230℃였음을 나타냈다; 온도가 매우 높을 때 활성탄 피재체는 사전 산화 과정에서 산소와 반응하고, 동시에 V2O5 때 활성탄 표면에 집적되어 질산의 탈질 활성을 감소시킨다; 최적 조건 하에서 제조된 V2O5/AC촉매는 실험 조건 하에서 고품질의 탈질성능을 나타내며, 질산의 탈질 효율은 90%에 달한다.
关键词
연기 질산 제거; 촉매 제조; V2O5/AC; 활성탄; 활성