질산화물을 제거하기 위한 SCR 촉매재의 재생 공정에 대한 연구를 수행하였다. X선 회절분석 (XRD), X선 형광분석 (XRF), X선 광전자 분괴 분석 (XPS) 및 특정 표면적 분석을 이용하여 촉매재의 재생 전후에 대해 특성을 확인하였으며, 모의 배기 가스 반응기를 통해 촉매재의 재생 효과를 평가하였다. 연구 결과, 희석된 H2SO4 용액으로 촉매재를 세척함으로써 촉매재의 독성 물질을 효과적으로 제거하고 표면적을 회복할 수 있으며, 거품으로 세척하는 효과가 더 크다는 것을 확인하였다. 보조 용매로 에탄올아민을 사용하여 반응 가능한 량만큼 바나딜레이트 수용액의 서로 다른 농도를 제조할 수 있으며, 측지-건조-소성 공정을 통해 반응 물질 바나듐 산화물을 지속적 로 촉매재에 보충하여 질산화물 제거 효율을 92 %로 회복할 수 있다는 것을 확인하였다. 의 산호라로 수용성이 좋은 질산세륨 용액으로 바나듐산염을 대체하고, 뉴클레어가 없어진 촉매재에 반응 물질 산화세륨을 첨가하면 질산화물 제거 반응 온도 범위를 확장시킬 수 있으며 촉매제의 최대 질산화물 제거 효율을 90 %로 높일 수 있다는 것을 확인하였다.

SCR; 질산화물 촉매재; 재생; 세척; 적층; 질산화물 제거 효율