この研究では、窒素雰囲気下において、一定の吸波能力を持つ低温（400℃）で作られた常温（400℃）で作られた常温低温焦（Chi Dong石炭）を、マイクロ波誘導放電およびシールド放電状態でマイクロ波加熱することにより、X線回折（XRD）、フーリエ変換赤外スペクトル（FT-IR）、BET比表面積測定などの技術を用いて、2つの状態で得られた焦状物の結晶構造、表面官能基および比表面積を分析した。その結果、非放電状態と比較して、放電状態での放電10分間では、焦状物の結晶面間隔d002と結晶面の横方向の寸法Laが著しく増加した。非放電状態では、マイクロ波加熱による低温焦表面官能团の除去効果が緩慢であり、一方、放電状態では、放電10分間で、低温焦表面の脂肪族炭化水素および酸素含有官能基の数が著しく減少した。非放電マイクロ波加熱では、焦状物の比表面積にほとんど変化がないが、放電30分間で、焦状物の比表面積が4.4 m²/gから45.3 m²/gに増加したが、放電60分後、焦状物の表面の孔構造が放電の影響を受けて著しく破壊され、比表面積が8.5 m²/gに減少した。

マイクロ波放電; 半焦; Chi Dong 石炭; 結晶構造; 表面官能基; 比表面積