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商用SCR触媒の非活性化の原因分析および後続処理
YU Xiaowei
,
ZHOU Yu
,
LIU Shuai
,
SONE Chao
,
DOI:
摘要
商用SCR触媒の非活性化の原因が分析され、1.4万、2.5万、3.0万時間の運転後の後続処理で窒素酸化物の除去効率がいずれの期間も著しく低下しました。研究によると、NH4Clを使用した水処理がH2SO4を使用した処理よりも効果的でした。触媒の後続処理後、実験室モデリング条件下での除去効率が90%を超え、触媒表面の活性成分は失われず、ガス流速への影響が小さかった。高温により、触媒表面構造が激しく凝集し、多孔質構造が破壊され、再生プロセス後の補正効果が明らかではありませんでした。
关键词
燃焼ガスの脱窒; 選択的触媒還元; 触媒; 再生; H2SO4; NH4Cl; 活性; 特定表面積
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