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GIS绝缘子固化特征与缺陷产生机理研究进展
更新时间:2026-09-16
    • GIS绝缘子固化特征与缺陷产生机理研究进展

    • Vol. 52, Issue 5, Pages: 2052-2067(2026)
    • DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.20250476    

      CLC:
    • Received:31 May 2026,

      Published:2026

    移动端阅览

  • ZHANG Yingying, HAO Yanpeng, MI Hongru, et al. GIS绝缘子固化特征与缺陷产生机理研究进展[J]. 2026, 52(5): 2052-2067. DOI: 10.13336/j.1003-6520.hve.20250476.

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